Анализатор остаточных газов для полупроводниковых процессов и вакуумного нанесения покрытий. Предназначен для контроля следовых примесей и динамики газового состава. Заявлены минимальное парциальное давление 2·10⁻¹⁵ Торр, скорость сканирования 2 мс на точку и диапазон масс до 300 а.е.м. Конкретное исполнение и условия достижения характеристик уточняют при подборе.

Назначение и принцип работы
Анализатор остаточных газов для полупроводниковых процессов и вакуумного нанесения покрытий. Предназначен для контроля следовых примесей и динамики газового состава. Заявлены минимальное парциальное давление 2·10⁻¹⁵ Торр, скорость сканирования 2 мс на точку и диапазон масс до 300 а.е.м. Конкретное исполнение и условия достижения характеристик уточняют при подборе.
Характеристики исполнения
Комплектацию и параметры заказываемого исполнения согласуют при подборе.
Подбор исполнения и интеграция
При подборе определяют объём изделия, испытательное давление, допустимую утечку, время цикла, способ соединения и требования к регистрации результатов. Предел обнаружения прибора не является допустимой утечкой изделия. Состав стенда и оснастку согласуют под технологический процесс.
HM-Leaklab-130 — Высокопроизводительный анализатор остаточных газов
Цифровой контроль вакуумных технологических процессов
Собственная разработка основных узлов и интеллектуальный контроль выхода годных изделий
Минимальное обнаруживаемое парциальное давление: 2·10⁻¹⁵ Торр
Принцип работы и возможности
- Высокая чувствительность — 3·10⁻⁴ А/Торр. Обнаружение газов с низкой концентрацией и следовых примесей для выявления потенциальных источников загрязнения.
- Широкий диапазон масс — 1–300 а.е.м. Квадрупольная технология для анализа разных технологических газов и охвата нескольких задач одним прибором.
- Быстрое сканирование — 2 мс на точку. Мониторинг изменений процесса в реальном времени с согласованием производственного такта.
- Высокое отношение сигнал/шум: стабильный сигнал для различения слабых составляющих и уменьшения риска ошибочного решения или пропуска загрязнения.
- Повышение качества: наблюдение за газовой средой вакуумного процесса и локализация источников аномальных газов для повышения выхода годных изделий и согласованности производства.
- Собственная разработка основных технологий и локальный отклик, заявленные Hirays, для управляемости поставок и оптимизации затрат.
- Интеграция управления: несколько протоколов связи для сопряжения с автоматизированной производственной линией.
Области применения
- Полупроводниковое производство: контроль остаточных газов и чистоты технологической среды
- Поиск течей и источников загрязнения в энергетике и вакуумных системах
- Вакуумное нанесение покрытий: анализ газового состава и оптимизация процесса
- Авиационная и космическая отрасли: моделирование вакуумной среды и анализ состава газов
- Ускорители частиц: мониторинг газовых примесей в системах сверхвысокого вакуума
- Научные исследования: материаловедение, физика поверхности и химический анализ
Технические характеристики из графической таблицы
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Наименование | Высокопроизводительный анализатор остаточных газов |
| Габариты Д × Ш × В | 450 × 120 × 120 мм |
| Электропитание и мощность | 220 В переменного тока, 50 Гц; 120 Вт |
| Масса | 2,8 кг |
| Рабочее давление | <5·10⁻³ Па |
| Ионный источник | Закрытый ионный источник с защитой от загрязнения |
| Разрешение на уровне 10 % высоты пика | 1 а.е.м. |
| Чувствительность | 3·10⁻⁴ А/Торр (FC) |
| Максимальная рабочая температура датчика | 120 °C |
| Максимальная температура прогрева | 300 °C |
а.е.м. — атомная единица массы, Торр — единица давления, FC — цилиндр Фарадея, MCP — микроканальная пластина, EM — электронный умножитель. Чувствительность в А/Торр или А/мбар характеризует токовый отклик анализатора и не является потоком утечки. Условия прогрева и температурные пределы разных узлов уточняют в руководстве. Условия обслуживания согласуют при выборе оборудования.



